ASML 4022.471.7370

Технические параметры ASML 4022.471.7370

  • Тип устройства: Модуль термостатирования с жидкостным охлаждением для литографии ASML
  • Характеристики работы:
    • Количество регулируемых зон: 12
    • Диапазон температуры: 18–25 °C
    • Разрешение регулировки: 0.0005 °C
    • Погрешность стабилизации: ±0.0008 °C
    • Система охлаждения: Жидкостная (расход 0.5–2 л/мин, дистиллированная вода)
    • Тип датчиков: Инфракрасные + термопары (разрешение 0.0002 °C)
    • Скорость отклика: ≤5 мс
    • Питание: 220 В переменное тока (стабильность ±0.005%)
    • Класс чистоты: ISO 14644-1 Class 3
Категория: Бренд:

Описание

Описание продукта ASML 4022.471.7370

ASML 4022.471.7370 — это высокоточный модуль термостатирования с расширенными возможностями охлаждения для литографических систем, разработанный для стабильного контроля температуры в условиях интенсивного тепловыделения (например, при работе мощных лазеров ArF и F2). Этот модуль 4022.471.7370 сочетает в себе многозональное регулирование с жидкостным охлаждением, что делает его незаменимым для фабрик полупроводников (производство чипов 2–3 нм), исследовательских центров (эксперименты с экстремальными лазерными мощностями) и калибровочных лабораторий (стабилизация эталонных установок). ASML 4022.471.7370 подтверждает качество бренда ASML, сочетая сверхточность с соответствием стандартами SEMI S2 и ISO 14644-1 (класс чистоты 3), а также сертификатом на защиту от гидравлических перегрузок. ASML 4022.471.7370 оснащен функцией Advanced Liquid Thermal Control, где 12 независимых зон регулируют температуру с шагом 0.0005 °C, а жидкостная система охлаждения с расходом 2 л/мин удаляет лишний тепло, предотвращая перегрев компонентов. Например, в фабрике полупроводников 4022.471.7370 управляет температурой оптического блока лазера ArF (193 нм) при нанесении 2 нм узора: при всплеске тепла на 0.02 °C модуль мгновенно увеличивает расход охлаждающей жидкости, стабилизируя параметры за 5 мс. В исследовательском центре ASML 4022.471.7370 поддерживает стабильность температуры экспериментального стенда с лазером мощностью 10 кВт, что критично для точности измерений наноструктур. ASML 4022.471.7370 совместим с литографическими системами ASML EXE:5000 и NXE:4000, а также интегрируется с программным обеспечением ASML Thermal Expert Suite. [Ссылка на продукт ASML 4022.471.7370]

Технические параметры ASML 4022.471.7370

  • Тип устройства: Модуль термостатирования с жидкостным охлаждением для литографии ASML
  • Характеристики работы:
    • Количество регулируемых зон: 12
    • Диапазон температуры: 18–25 °C
    • Разрешение регулировки: 0.0005 °C
    • Погрешность стабилизации: ±0.0008 °C
    • Система охлаждения: Жидкостная (расход 0.5–2 л/мин, дистиллированная вода)
    • Тип датчиков: Инфракрасные + термопары (разрешение 0.0002 °C)
    • Скорость отклика: ≤5 мс
    • Питание: 220 В переменное тока (стабильность ±0.005%)
    • Класс чистоты: ISO 14644-1 Class 3

Преимущества и особенности ASML 4022.471.7370

ASML 4022.471.7370 выделяется ультравысокой точностью, расширенной охлаждающей системой и многозональностью:

 

  • Жидкостное охлаждение высокого класса: Возможность удаления тепла с расходом до 2 л/мин позволяет компенсировать интенсивное тепловыделение мощных лазеров (ArF, F2), что критично для производства чипов 2–3 нм, где длительная работа лазера вызывает значительные тепловые расширения.
  • Двеннадцать независимых зон: Отдельная регулировка каждой зоны с разрешением 0.0005 °C обеспечивает равномерность температуры по всей системе (от столика с пластиной до оптических блоков), предотвращая локальные искажения узоров.
  • Двойная система датчиков: Совмещение инфракрасных сенсоров и термопар с разрешением 0.0002 °C гарантирует абсолютную достоверность данных, что важно для калибровочных лабораторий и критических экспериментов.
  • Адаптивная система регулировки: Алгоритмы предиктивного контроля анализируют тенденции изменения температуры и корректируют параметры заранее, что сокращает время отклика до 5 мс и предотвращает перепады.

Применение в отраслях

  • Полупроводниковая промышленность: Производство чипов 2–3 нм с использованием лазеров ArF/F2
  • Исследовательские центры: Эксперименты с высокомощными лазерами и наноструктурами
  • Калибровочные лаборатории: Стабилизация эталонных термометров и оптических систем
  • Оптика космического класса: Термостатирование линз для орбитальных телескопов

Сравнение с конкурентами

Параметр ASML 4022.471.7370 Конкуренты
Разрешение регулировки 0.0005 °C 0.005–0.01 °C
Количество зон 12 4–6
Максимальный расход охлаждения 2 л/мин 0.8–1 л/мин
Скорость отклика ≤5 мс 20–50 мс

Советы по выбору и предостережению

  • Выбор: Выбирайте ASML 4022.471.7370 для литографических систем с мощными лазерами (ArF, F2) или при производстве чипов 2–3 нм, где требуется экстремальная стабильность температуры. Оптимально для интеграции в линии ASML EXE:5000/NXE:4000.
  • Установка:
    • Монтируйте модуль в зоне чистоты ISO 3 с гидравлическими линиями из нержавеющей стали — предотвращает загрязнение охлаждающей жидкости и коррозию.
    • Используйте только дистиллированную воду с минимальным содержанием примесей (≤1 мг/л) — примеси могут закупоривать каналы охлаждения и нарушать теплообмен.
  • Обслуживание:
    • Проводите калибровку датчиков раз в 40 часов работы с помощью эталонного комплекта ASML Ultra-Calibrator — сохраняет разрешение измерений.
    • Очищайте фильтры охлаждающей системы раз в 50 часов — загрязнение снижает расход жидкости и эффективность охлаждения.
    • Обновляйте прошивку через закрытый сервис ASML Secure Portal — новые версии включают улучшенные алгоритмы предиктивного контроля.
  • Безопасность:
    • Ограничивайте доступ к гидравлическим настройкам через биометрическую авторизацию — перепады давления могут повреждать деликатные компоненты системы.
    • Регулярно проверяйте герметичность соединений — утечки охлаждающей жидкости в зоне чистоты приводят к браку продукции.

 

ASML 4022.471.7370 — это передовой модуль для термостатирования в условиях экстремального тепловыделения, сочетающий уникальную точность ASML с мощной охлаждающей системой, что делает его незаменимым для самых передовых технологий микроэлектроники.