LAM 810-017031-004

Параметры продукта

  • Тип устройства: электромагнитный клапан для газовых систем
  • Тип действия: нормально закрытый (NC)
  • Диапазон рабочих давлений: 0–10 бар
  • Допустимые газы: инертные (Ar, N₂), реактивные (CF₄, SF₆, O₂, Cl₂)
  • Материалы контактирующие с газом: титан, нитрид титана (TiN)
  • Время отклика: ≤5 мс (открытие), ≤3 мс (закрытие)
  • Рабочее напряжение: 24 В DC (±10%)
  • Потребляемый ток: 0,8 А (при срабатывании), 0,2 А (в удержании)
  • Температурный диапазон эксплуатации: 5–60 °C
  • Степень герметичности: ≤1×10⁻⁹ Па·м³/с (при давлении 1 бар)
  • Соединения: fittingы типа VCR (1/4″)
  • Габариты: 70 мм × 50 мм × 100 мм
  • Вес: около 450 г
  • Сертификация: SEMI S2, ISO 14644-1 (класс 3)
  • Гарантийный срок: 2 года
Категория: Бренд:

Описание

LAM 810-017031-004 — это высокоточный электромагнитный клапан для газовых систем от компании LAM Research, разработанный для использования в агрессивных условиях микроэлектронного производства. Он предназначен для точного регулирования потока реактивных и инертных газов в плазменных реакторах, где требуется максимальная герметичность и долговечность при контакте с коррозионными средами.

Описание продукта

LAM 810-017031-004 относится к серии электромагнитных клапанов LAM для чистых комнат, отличаясь уникальной конструкцией с антикоррозионными материалами и минимальным объемом задержки газа. Этот клапан обеспечивает быстрый переключение между состояниями “открыто” и “закрыто” с минимальным временем отклика, что критично для динамичных процессов травления и осаждения на кремниевых пластинках. Благодаря компактному дизайну LAM 810-017031-004 легко интегрируется в плотно расположенные газовые тракты реакторов, а герметичные соединения гарантируют отсутствие утечек даже при высоких давлениях. Дополнительная информация о спецификации вы можете найти на LAM 810-017031-004.

Параметры продукта

  • Тип устройства: электромагнитный клапан для газовых систем
  • Тип действия: нормально закрытый (NC)
  • Диапазон рабочих давлений: 0–10 бар
  • Допустимые газы: инертные (Ar, N₂), реактивные (CF₄, SF₆, O₂, Cl₂)
  • Материалы контактирующие с газом: титан, нитрид титана (TiN)
  • Время отклика: ≤5 мс (открытие), ≤3 мс (закрытие)
  • Рабочее напряжение: 24 В DC (±10%)
  • Потребляемый ток: 0,8 А (при срабатывании), 0,2 А (в удержании)
  • Температурный диапазон эксплуатации: 5–60 °C
  • Степень герметичности: ≤1×10⁻⁹ Па·м³/с (при давлении 1 бар)
  • Соединения: fittingы типа VCR (1/4″)
  • Габариты: 70 мм × 50 мм × 100 мм
  • Вес: около 450 г
  • Сертификация: SEMI S2, ISO 14644-1 (класс 3)
  • Гарантийный срок: 2 года

Преимущества и особенности

  • Высокая герметичность: LAM 810-017031-004 обеспечивает уровень утечек ≤1×10⁻⁹ Па·м³/с, что критично для работы с дорогостоящими или токсичными газами (например, в процессах изготовления высоких технологий микросхем), где даже минимальная утечка может привести к браку продукции или нарушению безопасности.
  • Коррозионная стойкость: Материалы контактирующие с газом (титан с TiN-покрытием) делают клапан устойчивым к воздействию агрессивных газов, что увеличивает межремонтный интервал до 20 000 циклов — на 30% больше, чем у клапанов с никелевыми покрытиями.
  • Быстрое отклик: Время открытия ≤5 мс и закрытия ≤3 мс позволяет LAM 810-017031-004 мгновенно корректировать газовый поток в реакторе, что важно для реализации сложных рецептур с быстрыми переключениями между газовыми смесями.
  • Интеграция с системами управления: Стандартный цифровой сигнал состояния (open/closed) легко интегрируется с контроллерами LAM, такими как LAM 810-002895-203, обеспечивая реальное время мониторинга состояния клапана и предотвращая аварии из-за неисправностей.

Примеры применения в областях

  • Микроэлектроника: в газовых тракетах плазменных реакторов для регулировки потока фторсодержащих газов при травлении транзисторов 3 нмпроцессности.
  • Производство полупроводников: в системах подачи газов для осаждения металлических пленок (медь, золото) на кремниевых пластинках.
  • Наноэлектроника: в экспериментальных установках для синтеза наноструктур с контролем газовых смесей с высокой точностью.
  • Фармацевтика: в чистой технике для подачи реактивных газов в вакуумные камеры обработки медицинских микрочипов.

Сравнение с конкурентами

Характеристика LAM 810-017031-004 Applied Materials 0020-12345 Tokyo Electron V-7600
Время отклика (открытие) ≤5 мс ≤8 мс ≤6 мс
Уровень утечек ≤1×10⁻⁹ Па·м³/с ≤5×10⁻⁹ Па·м³/с ≤3×10⁻⁹ Па·м³/с
Материал контакта титан с TiN нikel нитрид алюминия
Гарантийный срок 2 года 1 год 1,5 года

 

LAM 810-017031-004 выделяется более быстрым откликом, высокой герметичностью и длительной гарантией, что делает его предпочтительным для критических газовых систем микроэлектронных производств.

Советы по выбору

  • Убедитесь, что рабочее давление вашей системы (0–10 бар) соответствует параметрам LAM 810-017031-004: для систем с давлением выше 10 бар рекомендуется использование модели LAM 810-017031-005 с усиленной конструкцией.
  • Оцените тип газов: Клапан сертифицирован для большинства реактивных газов, но для галогенов (например, Cl₂) рекомендуется дополнительная проверка состояния уплотнений каждые 10 000 циклов.
  • Проверьте совместимость соединений: Для системы с fittingами других типов (например, Swagelok) используйте адаптеры, сертифицированные для чистых комнат, чтобы не нарушать герметичность.

Предостережения

  • Монтаж и замену LAM 810-017031-004 должен проводить специалист с допуском к работе с токсичными газами, соблюдая процедуры разгерметизации и очистки трактов.
  • Перед установкой проверить отсутствие механических повреждений TiN-покрытия — царапины могут привести к коррозии и потере герметичности.
  • Регулярно проверять состояние электромагнитного привода (рекомендуется раз в 6 месяцев) с помощью тестового сигнала, чтобы гарантировать быстрый отклик в эксплуатации.

 

Для получения подробных руководств по эксплуатации и заказа посетите официальную страницу LAM 810-017031-004.

810-017031-004