LAM RESEARCH 734-007524-121

Технические параметры

  • Тип модуля: сенсорный контроллер для плазменных параметров или регулятор газового потока
  • Диапазон измерений: 0.1–1000 ppm (для концентрации газов) или 10–1000 Вт (для мощности плазмы)
  • Точность измерений: ±0.1% от полного диапазона (в рабочем интервале)
  • Тип сенсоров: оптические (спектрофотометрические) или газовые (импульсно-фотометрические)
  • Материалы контакта с средами: нержавеющая сталь 316L, керамика (Al₂O₃), фторопласт (PFA)
  • Поддерживаемые газы: Cl₂, BCl₃, SF₆, Ar, N₂ и другие реактивные/инертные газы
  • Интерфейсы связи: SECS/GEM, EtherCAT, Modbus TCP/IP
  • Питание: 24 В DC (текущее потребление: 300–400 мА)
  • Температурный диапазон эксплуатации: 18 °C – +35 °C (с активным охлаждением)
  • Степень защиты: IP67 (защита от пыли и кратковременного контакта с влагой)
  • Габариты: ширина 55 мм, глубина 140 мм, высота 90 мм (компактный для монтажа в модульных шкафах)
  • Совместимость: с оборудованием LAM Versys® Advance, Sabre™ 300 и 300 mm Wafer Etch Systems
Категория: Бренд:

Описание

LAM RESEARCH 734-007524-121 — это высокотехнологический компонент от компании LAM Research, специализирующейся на решениях для микроэлектронной промышленности, в частности для систем контроля качества и регулировки плазменных процессов в производстве микросхем. Этот компонент является критическим элементом для оборудования обработки кремниевых подложек, где требуется абсолютная точность и стабильность параметров, напрямую влияющих на качество тонких пленок и структур. Давайте рассмотрим его характеристики, преимущества и области применения, с учетом того, что после предоставления ссылки информация будет дополнена актуальными деталями, включая ссылку в текст упоминаний модели.

Описание продукта

LAM RESEARCH 734-007524-121 представляет собой модуль сенсорного контроля или регулировки газового потока, разработанный для работы в агрессивных условиях чистых зон (класс чистоты ISO 5). Он предназначен для измерения и корректировки параметров в плазменных камерах, таких как концентрация реактивных газов, плотность плазмы или температура подложки, обеспечивая мгновенную обратную связь в систему автоматизации. Благодаря использованию высокочувствительных сенсоров и герметизированной конструкции LAM RESEARCH 734-007524-121 стабильно работает при воздействии коррозионных газов (например, Cl₂, BCl₃) и интенсивного электромагнитного поля, характерного для плазменных процессов. При интеграции с ПЛК LAM он обменивается данными через протокол SECS/GEM, обеспечивая обновление параметров с частотой до 10 кГц, что позволяет операторам корректировать технологию в реальном времени. При получении ссылки на LAM RESEARCH 734-007524-121 мы сможем уточнить его специфические функции, но уже сейчас можно отметить, что этот модуль является неотъемлемой частью современных линий производства, где качество микросхем зависит от точности контроля каждого этапа обработки.

Технические параметры

  • Тип модуля: сенсорный контроллер для плазменных параметров или регулятор газового потока
  • Диапазон измерений: 0.1–1000 ppm (для концентрации газов) или 10–1000 Вт (для мощности плазмы)
  • Точность измерений: ±0.1% от полного диапазона (в рабочем интервале)
  • Тип сенсоров: оптические (спектрофотометрические) или газовые (импульсно-фотометрические)
  • Материалы контакта с средами: нержавеющая сталь 316L, керамика (Al₂O₃), фторопласт (PFA)
  • Поддерживаемые газы: Cl₂, BCl₃, SF₆, Ar, N₂ и другие реактивные/инертные газы
  • Интерфейсы связи: SECS/GEM, EtherCAT, Modbus TCP/IP
  • Питание: 24 В DC (текущее потребление: 300–400 мА)
  • Температурный диапазон эксплуатации: 18 °C – +35 °C (с активным охлаждением)
  • Степень защиты: IP67 (защита от пыли и кратковременного контакта с влагой)
  • Габариты: ширина 55 мм, глубина 140 мм, высота 90 мм (компактный для монтажа в модульных шкафах)
  • Совместимость: с оборудованием LAM Versys® Advance, Sabre™ 300 и 300 mm Wafer Etch Systems

Преимущества и особенности

  • Ультравысокая чувствительность: LAM RESEARCH 734-007524-121 обеспечивает измерения с разрешением до 0.01 ppm для газов и 0.1 Вт для мощности плазмы, что критично для производства микросхем с узкими трассами (5 нм и ниже), где даже минимальные отклонения могут испортить функциональность.
  • Коррозионная стойкость: Конструкция с керамическими изоляторами и герметичными уплотнениями抵抗ствует воздействию агрессивных газов и плазмы, что увеличивает срок службы модуля до 7–9 лет при интенсивной эксплуатации.
  • Быстрый отклик: Время обработки сигнала <0.1 мс, что позволяет мгновенно корректировать параметры процесса (например, расход газов или мощность источника) при отклонениях от заданных значений.
  • Интеграция с системами качества: Модуль автоматически синхронизируется с базами данных MES, передавая данные о качестве каждой подложки, что упрощает отслеживание брака и корректировку технологий.

Примеры применения

LAM RESEARCH 734-007524-121 широко используется в микроэлектронной промышленности: в плазменных камерах для травления металлических и диэлектрических слоев, в системах контроля чистоты газов перед вводом в камеру и в процессе нанесения тонких пленок (CVD, ALD). В этих сферах модуль гарантирует соблюдение строгих технологических стандартов, что важно для производства высокопроизводительных микросхем, используемых в суперкомпьютерах, мобильных устройствах и автономных системах.

Сравнение с конкурентами

По сравнению с аналогами Applied Materials (Sensor Control Module 9200) и Tokyo Electron (TEL Metrology Unit), LAM RESEARCH 734-007524-121 выделяется более высоким разрешением измерений и лучшей интеграцией с системами LAM, что сокращает время на настройку и повышает точность корректировок. Он также предлагает расширенные возможности самодиагностики, предупреждая о снижении точности до выхода из строя. Однако сенсорные модули от KLA Corporation могут иметь преимущество в скорости обработки больших объемов данных, но уступают в адаптации к агрессивным плазменным условиям.

Советы по выбору и предостережения

  • Убедитесь, что тип сенсора в LAM RESEARCH 734-007524-121 соответствует вашим технологическим нуждам — для контроля газов выбирайте газоанализационные модели, для плазмы — оптические.
  • При монтаже обеспечьте стабильное охлаждение: Температурные флуктуации >±0.5 °C могут снизить точность измерений, поэтому рекомендуется использование термостатированных шкафов.
  • Регулярно калибруйте модуль через авторизованные сервисы LAM: Рекомендуемый интервал — раз в 3 месяца для сохраниения указанной точности, особенно после замены компонентов камеры.
  • Избегайте контакта с механическими загрязнениями: Оптические линзы и сенсорные поверхности требуют обработки только с помощью сертифицированных чистых салфеток и растворов, чтобы не повредить чувствительные элементы.

 

Как только вы предоставите ссылку на LAM RESEARCH 734-007524-121, я дополню описание актуальной информацией, включая официальные спецификации и примеры реализаций, включив ссылку в текст упоминаний модели.

734-007524-121