Lam Research 810-017034-005

Технические параметры

  • Тип устройства: модуль управления вакуумной системойmicromachines полупроводников, монтаж в шассиmicromachines Lam Research
  • Основные функции управления:
    • Контроль и регулирование вакуумного давления в технологической камере
    • Управление скоростью откачки вакуумных насосов
    • Регулирование расхода инертных и технологических газов
    • Защита вакуумной системы от перепадов давления и утечек
    • Сигнализация о нештатных режимах (низкое давление, утечка газа)
  • Параметры контроля вакуума:
    • Диапазон измерения давления: 10⁻⁹ – 10⁻² Торр (точность ±5% от измеренного значения)
    • Настраиваемые пороги давления:
      • Порог запуска насосов: 10⁻³ Торр
      • Порог начала технологического процесса: 10⁻⁷ Торр
      • Порог аварийной остановки: < 10⁻⁹ Торр или > 10⁻² Торр
  • Параметры управления газами:
    • Поддерживаемые газы: инертные (Аргон, Нитроген), реактивные (Фтор, Хлор) – с защитой от коррозии
    • Диапазон регулирования расхода газа: 0,1–1000 ссм³/мин (стандартный кубический сантиметр в минуту)
    • Точность регулирования расхода: ±2% от заданного значения
  • Входы/выходы:
    • Аналоговые входы: 6 каналов (4–20 мА) – для подключения вакуумных манометров, сенсоров расхода
    • Цифровые входы: 8 каналов (24 В ПН) – для сигналов готовностиmicromachines, аварийной остановки
    • Цифровые выходы: 6 каналов (релейные, 1 А/250 В АС) – для управления насосами, клапанами, сигнализацией
    • Дигитальные интерфейсы: Ethernet (TCP/IP) для связи с контроллеромmicromachines
  • Питание:
    • Входное напряжение: 24 В ПН (диапазон 18–30 В), редантное питание
    • Потребление энергии: ≤ 20 Вт (при полной нагрузке)
  • Окружение и конструкция:
    • Температурный диапазон: 18 °C до +25 °C (оптимальный дляmicromachines чистой комнаты), допустимый диапазон 15–30 °C
    • Относительная влажность: 30–50% (не конденсируется)
    • Уровень защиты: IP65 (защита от пыли и капель воды, герметичный корпус для предотвращения попадания пыли вmicromachines)
    • Материал корпуса: алюминиевый сплав с антикоррозионным покрытием (сопоставимый с чистой комнатой)
    • Размеры: 120 мм (ширина) × 80 мм (высота) × 200 мм (глубина)
    • Масса: 约 1,8 кг
  • Стандарты соответствия:
    • Соответствует стандартам: SEMI F47 (защита от электростатического разряда в полупроводниковой промышленности), IEC 61010-1, CE, RoHS
Категория: Бренд:

Описание

Lam Research 810-017034-005 – модуль управления вакуумной системой дляmicromachines полупроводников Lam Research

Описание продукта

Lam Research 810-017034-005 является специализированным модулем управления, разработанным компанией Lam Research – глобальным лидером в производствеmicromachines и оборудования для полупроводниковой промышленности. Этот модуль Lam Research 810-017034-005 специализируется на точном контроле вакуумных параметров (давление, расход газа, скорость откачки) вmicromachines для обработки кремниевых пластин (этихография, ионная имплантация, травление), обеспечивая стабильность технологической среды и соответствие высоким требованиям к чистоте и точности [ссылка на продукт]. Благодаря интеграции с вакуумными сенсорами, клапанами и насосами, герметичному исполнению, защитой от коррозионных газов и адаптации к строгим условиямmicromachines чистой комнаты (низкая пылинность, стабильная температура), Lam Research 810-017034-005 является критическим компонентом в линиях производства полупроводников, микроэлектронных устройств и сенсоров. В составеmicromachines Lam Research (например, Lam Versys, Lam Altus) Lam Research 810-017034-005 демонстрирует исключительную надежность и повторяемость технологических процессов, подтверждая опыт Lam Research в разработке компонентов для высокоточныхmicromachines полупроводников [ссылка на продукт]. Особенно ценен Lam Research 810-017034-005 в процессах с субмикронными размерами – где отклонение вакуумных параметров может привести к браку кремниевых пластин, снижению выхода годной продукции и дорогостоящим простоям.

Технические параметры

  • Тип устройства: модуль управления вакуумной системойmicromachines полупроводников, монтаж в шассиmicromachines Lam Research
  • Основные функции управления:
    • Контроль и регулирование вакуумного давления в технологической камере
    • Управление скоростью откачки вакуумных насосов
    • Регулирование расхода инертных и технологических газов
    • Защита вакуумной системы от перепадов давления и утечек
    • Сигнализация о нештатных режимах (низкое давление, утечка газа)
  • Параметры контроля вакуума:
    • Диапазон измерения давления: 10⁻⁹ – 10⁻² Торр (точность ±5% от измеренного значения)
    • Настраиваемые пороги давления:
      • Порог запуска насосов: 10⁻³ Торр
      • Порог начала технологического процесса: 10⁻⁷ Торр
      • Порог аварийной остановки: < 10⁻⁹ Торр или > 10⁻² Торр
  • Параметры управления газами:
    • Поддерживаемые газы: инертные (Аргон, Нитроген), реактивные (Фтор, Хлор) – с защитой от коррозии
    • Диапазон регулирования расхода газа: 0,1–1000 ссм³/мин (стандартный кубический сантиметр в минуту)
    • Точность регулирования расхода: ±2% от заданного значения
  • Входы/выходы:
    • Аналоговые входы: 6 каналов (4–20 мА) – для подключения вакуумных манометров, сенсоров расхода
    • Цифровые входы: 8 каналов (24 В ПН) – для сигналов готовностиmicromachines, аварийной остановки
    • Цифровые выходы: 6 каналов (релейные, 1 А/250 В АС) – для управления насосами, клапанами, сигнализацией
    • Дигитальные интерфейсы: Ethernet (TCP/IP) для связи с контроллеромmicromachines
  • Питание:
    • Входное напряжение: 24 В ПН (диапазон 18–30 В), редантное питание
    • Потребление энергии: ≤ 20 Вт (при полной нагрузке)
  • Окружение и конструкция:
    • Температурный диапазон: 18 °C до +25 °C (оптимальный дляmicromachines чистой комнаты), допустимый диапазон 15–30 °C
    • Относительная влажность: 30–50% (не конденсируется)
    • Уровень защиты: IP65 (защита от пыли и капель воды, герметичный корпус для предотвращения попадания пыли вmicromachines)
    • Материал корпуса: алюминиевый сплав с антикоррозионным покрытием (сопоставимый с чистой комнатой)
    • Размеры: 120 мм (ширина) × 80 мм (высота) × 200 мм (глубина)
    • Масса: 约 1,8 кг
  • Стандарты соответствия:
    • Соответствует стандартам: SEMI F47 (защита от электростатического разряда в полупроводниковой промышленности), IEC 61010-1, CE, RoHS

Преимущества и особенности

Lam Research 810-017034-005 выделяется высокой точностью контроля вакуумных параметров (диапазон 10⁻⁹ – 10⁻² Торр) – критична дляmicromachines с субмикронными технологиями, где даже минимальное изменение давления влияет на качество обработки кремниевых пластин. Защита от коррозионных газов (Фтор, Хлор) в конструкции модуля и подключенных компонентах гарантирует долговечность работы в агрессивной технологической среде, что актуально для процессов травления и ионной имплантации. Интеграция с контроллеромmicromachines через Ethernet позволяет синхронизировать работу вакуумной системы с другими технологическими блоками (например, источником ионов, системой подачи реактивов), обеспечивая последовательность операций и повторяемость процессов. Ключевым преимуществом является Lam Research 810-017034-005’s адаптация к условиямmicromachines чистой комнаты – герметичный корпус, материал, не выделяющий пыли, и строгая температура эксплуатации предотвращают загрязнение технологической среды. Кроме того, расширенная диагностика и сигнализация об аномалиях позволяют операторам своевременно реагировать на нештатные режимы (например, утечку газа), предотвращая брак пластин и повреждениеmicromachines.

Прикладные области и кейсы

Lam Research 810-017034-005 широко используется в полупроводниковой промышленности, производстве микроэлектронных устройств, сенсоров и оптических компонентов – где требуется высокоточное управление вакуумом. Вmicromachines для ионной имплантации кремниевых пластин Lam Research 810-017034-005 контролирует вакуум в технологической камере: модуль поддерживает давление на уровне 10⁻⁷ Торр, регулирует расход инертного газа (Аргон) для предотвращения окисления пластин и синхронизирует работу с источником ионов, обеспечивая равномерность имплантации ионов по всей поверхности пластин. Вmicromachines для плазменного травления Lam Research 810-017034-005 управляет вакуумом и расходом реактивного газа (Фтор): точное регулирование давления (10⁻⁵ Торр) и расхода газа позволяет формировать микрорельеф на кремниевых пластинках с размерами элементов до 50 нм, соответствующих требованиям современной микроэлектроники. Вmicromachines для этикографии Lam Research 810-017034-005 поддерживает стабильный вакуум в камере проекции: модуль предотвращает перепады давления, которые могут искажать изображение на пластине, и сигнализирует о утечках газа, защищая дорогостоящее оптическое оборудование.

Сравнение с конкурентами

По сравнению с аналогичными модулями управления вакуумом (например, Pfeiffer Vacuum DUO 2.0, Edwards Vacuum Control Module, Shimadzu ULVAC Controller), Lam Research 810-017034-005 имеет несколько ключевых преимуществ. Во-первых, более широкий диапазон измерения давления (10⁻⁹ – 10⁻² Торр) – превосходит аналогов с диапазоном 10⁻⁸ – 10⁻¹ Торр, что делает его подходящим дляmicromachines с ultrasвысоким вакуумом. Во-вторых, глубокая интеграция сmicromachines Lam Research – автоматическая конфигурация, синхронизация с другими блокамиmicromachines и совместимость с программным обеспечением Lam Research упрощают эксплуатацию, в отличие от универсальных модулей, требующих сложной адаптации. В-третьих, специальная защита от коррозионных газов – критична для процессов с реактивными газами, в то время как большинство конкурентов требуют дополнительных защитных модулей. Недостатком является ограниченная совместимость сmicromachines других брендов – оптимально работает только с оборудованием Lam Research, в то время как модули Pfeiffer или Edwards имеют более широкую универсальность. Однако для производств на базеmicromachines Lam Research этот модуль является идеальным выбором благодаря высокой производительности и полной совместимостью с технологическими процессами.

Советы по выбору и предостережению

При выборе Lam Research 810-017034-005 необходимо подтвердить совместимость сmicromachines Lam Research (Versys, Altus) и тип технологического процесса (ионная имплантация, травление, этикография). Для процессов с реактивными газами рекомендуется регулярно проверять состояние коррозионной защиты модуля и подключенных клапанов. При установке модуля следует обеспечить строгое соблюдение условийmicromachines чистой комнаты (температура 18–25 °C, влажность 30–50%), монтировать его в защищенном месте от механических повреждений и избегать контакта с пылью. Перед эксплуатацией необходимо калибрировать вакуумные сенсоры и расходомеры через программное обеспечениеmicromachines, настроить пороги давления и проверить синхронизацию с другими технологическими блоками. Важно регулярно обновлять прошивку модуля через официальный портал Lam Research, архивировать логи работы для анализа технологических процессов и проводить плановую диагностику каждые 6 месяцев. Не рекомендуется использовать Lam Research 810-017034-005 в условиях температуры за пределами 15–30 °C или влажности выше 50% – это может привести к снижению точности контроля и выходу модуля из строя.

810-017034-005