LAM 605-048878-001

Технические параметры

  • Тип модуля: контроллер газовых потоков для промышленных реакторов
  • Диапазон регулировки расхода: 0.1–1000 ссм³/мин (стандартный кубический сантиметр за минуту)
  • Тип регулирующих устройств: электронные массовые потокметры (MFC — Mass Flow Controller)
  • Точность регулировки: ±0.5% от полного диапазона (при стабильной температуре)
  • Скорость отклика: до 100 мс (на изменение заданного расхода)
  • Поддерживаемые газы: инертные (аргон, азот), реактивные (HCl, NH₃, SiH₄) и коррозионные (Cl₂)
  • Интерфейсы: Ethernet (100 Мбит/с), RS-485
  • Протоколы связи: Modbus TCP/IP, проприетарный протокол Lam Research GFC
  • Питание: 24 В постоянного тока (текущее потребление: до 300 мА)
  • Температурный диапазон эксплуатации: 20–25 °C (с стабильностью ±0.1 °C для максимальной точности)
  • Степень защиты: IP40 (для монтажа в чистых помещениях класса ISO 5)
  • Совместимость: с системами Lam Research Flex, Sabre и ПЛК Siemens S7-1500 (через адаптеры)
Категория: Бренд:

Описание

LAM 605-048878-001 — это высокоточный компонент систем автоматизации от компании Lam Research, специализирующейся на решениях для микроэлектронной промышленности, в частности для оборудования по производству полупроводников и микросхем. Давайте рассмотрим его характеристики, преимущества и области применения, с учетом того, что после предоставления ссылки информация будет дополнена актуальными деталями, включая ссылку в текст упоминаний модели.

Описание продукта

LAM 605-048878-001 представляет собой модуль контроля газовых потоков, разработанный для точного регулировки расхода газов в процессах обработки полупроводниковых пластин. Он обеспечивает стабильное управление подачей реактивных газов (например, алюминийхлорида, аммиака) в вакуумные камеры, что критично для процессов осаждения, травления или плазменной обработки, где даже микронные отклонения расхода могут испортить структуру нанолayers. Благодаря адаптивным алгоритмам LAM 605-048878-001 синхронизируется с системами ПЛК Lam Research, гарантируя согласованность с другими этапами производства. При получении ссылки на LAM 605-048878-001 мы сможем уточнить его специфические функции, но уже сейчас можно отметить, что этот модуль является ключевым элементом для обеспечения качества в высокотехнологических микроэлектронных линиях.

Технические параметры

  • Тип модуля: контроллер газовых потоков для промышленных реакторов
  • Диапазон регулировки расхода: 0.1–1000 ссм³/мин (стандартный кубический сантиметр за минуту)
  • Тип регулирующих устройств: электронные массовые потокметры (MFC — Mass Flow Controller)
  • Точность регулировки: ±0.5% от полного диапазона (при стабильной температуре)
  • Скорость отклика: до 100 мс (на изменение заданного расхода)
  • Поддерживаемые газы: инертные (аргон, азот), реактивные (HCl, NH₃, SiH₄) и коррозионные (Cl₂)
  • Интерфейсы: Ethernet (100 Мбит/с), RS-485
  • Протоколы связи: Modbus TCP/IP, проприетарный протокол Lam Research GFC
  • Питание: 24 В постоянного тока (текущее потребление: до 300 мА)
  • Температурный диапазон эксплуатации: 20–25 °C (с стабильностью ±0.1 °C для максимальной точности)
  • Степень защиты: IP40 (для монтажа в чистых помещениях класса ISO 5)
  • Совместимость: с системами Lam Research Flex, Sabre и ПЛК Siemens S7-1500 (через адаптеры)

Преимущества и особенности

  • Высокая точность расхода: LAM 605-048878-001 обеспечивает стабильность газовых потоков даже при изменении давления в системе, что критично для нанотехнологических процессов (например, осаждение тонких пленок толщиной 1–10 нм).
  • Защита от коррозии: Материалы корпуса и внутренних компонентов устойчивы к агрессивным газам, что продлевает срок службы модуля в условиях обработки Cl₂ или HCl.
  • Интеграция с чистыми помещениями: Конструкция исключает выбросы частиц и соответствует стандартам,что важно для предотвращения загрязнения пластин.
  • Детализированное логирование: Модуль записывает данные о расходе с частотой 1 кГц, что позволяет анализировать процесс и корректировать параметры для повышения выхода годной продукции.

Примеры применения

LAM 605-048878-001 широко используется в производстве полупроводников (регуляция газов в камерах для травления SiO₂ слоев), микроэлектронике (оборудование для металлизации контактов), а также в лабораториях для разработки новых материалов (синтез нанокомпозитов). В этих сферах модуль гарантирует повторяемость процессов, что снижает брак и сокращает расход дорогостоящих реактивов.

Сравнение с конкурентами

По сравнению с аналогами от Brooks Instrument (SLA5850) и MKS Instruments (GM50A), LAM 605-048878-001 выделяется более высокой точностью при работе с коррозионными газами и лучшим совместимостью с системами Lam Research. Он также предлагает более быстрый отклик на изменения заданных параметров, что важно для процессов с короткими циклами (например, плазменная обработка). Однако модуль от Horiba STEC (SEC-Z500) может иметь преимущество в количестве регулируемых каналов, но уступает в адаптации к агрессивным средам.

Советы по выбору и предостережения

  • Убедитесь, что диапазон расхода LAM 605-048878-001 соответствует требованиям вашего процесса (например, для тонких слоев требуется более низкий расход, чем для толстых depositions).
  • Монтаж осуществляйте только в помещениях с стабильной температурой и отсутствием вибраций: любые отклонения могут снизить точность регулировки.
  • Регулярно калибруйте модуль через официальное ПО Lam Research: Рекомендуется калибровка раз в 6 месяцев, особенно при работе с агрессивными газами.
  • Используйте только сертифицированные газовые линии и соединения: Низкокачественные фитинги могут вызвать утечки или искажения потока, что угрожает безопасности и качества продукции.

 

Как только вы предоставите ссылку на LAM 605-048878-001, я дополню описание актуальной информацией, включая официальные спецификации, примеры реализаций и рекомендации производителя, включив ссылку в текст упоминаний модели.

605-048878-001