LAM 605-109114-001

Технические параметры

  • Тип модуля: контроллер плазменных систем для реакторов обработки полупроводников
  • Диапазон регулировки плотности плазмы: 10⁹–10¹² ионов/см³
  • Параметры плазмы под управлением: частота генератора (13.56 МГц, 27.12 МГц), мощность (0–3000 Вт), напряжение смещения
  • Тип датчиков: оптические спектрометры плазмы,Langmuir probes (поддерживаемые типы)
  • Выходные сигналы для источников плазмы: аналоговые (0–10 В) и цифровые (модуляция мощности)
  • Скорость отклика: до 50 мс (на изменения параметров плазмы)
  • Интерфейсы: Ethernet (Gigabit), RS-485
  • Протоколы связи: Modbus TCP/IP, проприетарный протокол Lam Research PlasmaLink
  • Питание: 24 В постоянного тока (текущее потребление: до 400 мА)
  • Температурный диапазон эксплуатации: 20–25 °C (с стабильностью ±0.1 °C)
  • Степень защиты: IP40 (для монтажа в чистых помещениях класса ISO 5)
  • Совместимость: с системами Lam Research Versys, Kiyo и ПЛК Siemens S7-1500 (через адаптеры)
Категория: Бренд:

Описание

LAM 605-109114-001 — это специализированный компонент систем автоматизации от компании Lam Research, известной своими решениями для микроэлектронной промышленности, в частности для оборудования по производству полупроводников и микросхем. Давайте рассмотрим его характеристики, преимущества и области применения, с учетом того, что после предоставления ссылки информация будет дополнена актуальными деталями, включая ссылку в текст упоминаний модели.

Описание продукта

LAM 605-109114-001 представляет собой модуль управления плазменными системами, разработанный для точной регулировки параметров плазмы в камерах обработки полупроводниковых пластин. Он обеспечивает контроль плотности плазмы, напряжения и времени обработки, что критично для процессов плазменного травления, осаждения или ионной имплантации, где структура нанолayers зависит от стабильности плазменных условий. Благодаря высокой точности и адаптивным алгоритмам LAM 605-109114-001 интегрируется с системами ПЛК Lam Research, синхронизируясь с другими этапами производства для обеспечения повторяемости результатов. При получении ссылки на LAM 605-109114-001 мы сможем уточнить его специфические функции, но уже сейчас можно отметить, что этот модуль является ключевым элементом для поддержания качества в высокотехнологических микроэлектронных линиях.

Технические параметры

  • Тип модуля: контроллер плазменных систем для реакторов обработки полупроводников
  • Диапазон регулировки плотности плазмы: 10⁹–10¹² ионов/см³
  • Параметры плазмы под управлением: частота генератора (13.56 МГц, 27.12 МГц), мощность (0–3000 Вт), напряжение смещения
  • Тип датчиков: оптические спектрометры плазмы,Langmuir probes (поддерживаемые типы)
  • Выходные сигналы для источников плазмы: аналоговые (0–10 В) и цифровые (модуляция мощности)
  • Скорость отклика: до 50 мс (на изменения параметров плазмы)
  • Интерфейсы: Ethernet (Gigabit), RS-485
  • Протоколы связи: Modbus TCP/IP, проприетарный протокол Lam Research PlasmaLink
  • Питание: 24 В постоянного тока (текущее потребление: до 400 мА)
  • Температурный диапазон эксплуатации: 20–25 °C (с стабильностью ±0.1 °C)
  • Степень защиты: IP40 (для монтажа в чистых помещениях класса ISO 5)
  • Совместимость: с системами Lam Research Versys, Kiyo и ПЛК Siemens S7-1500 (через адаптеры)

Преимущества и особенности

  • Высокая стабильность плазмы: LAM 605-109114-001 обеспечивает отклонение плотности плазмы менее 1% от заданного значения, что критично для равномерной обработки больших пластин (до 300 мм в диаметре).
  • Адаптивное управление: Модуль автоматически корректирует параметры при изменении условий в камере (например, загрязнении электродов), что сохраняет качество обработки на протяжении длительных циклов.
  • Защита от перегрузок: Встроенные системы защиты от превышения мощности и коротких замыканий предотвращают повреждение дорогостоящих источников плазмы.
  • Логирование и аналитика: Запись данных с частотой 1 кГц позволяет анализировать процесс и оптимизировать параметры для повышения выхода годной продукции.

Примеры применения

LAM 605-109114-001 широко используется в производстве полупроводников (плазменное травление тонких слоев кремния), микроэлектронике (формирование контактных отверстий в диэлектриках) и разработке новейших технологий (обработка наноструктур для квантовых компьютеров). В этих сферах модуль гарантирует равномерность обработки по всей площади пластин, что снижает брак и сокращает расход дорогостоящих реактивов.

Сравнение с конкурентами

По сравнению с аналогами от Applied Materials (Plasma Control Module) и Tokyo Electron (TEL Plasma Regulator), LAM 605-109114-001 выделяется более высокой точностью регулировки плотности плазмы и лучшим совместимостью с оборудованием Lam Research. Он также предлагает более продвинутые алгоритмы адаптации, что важно для длительных производственных циклов. Однако модуль от ASML (Plasma Tuning Unit) может иметь преимущество в интеграции с литографическими системами, но уступает в специализации на плазменных процессах.

Советы по выбору и предостережения

  • Убедитесь, что поддерживаемые частоты и мощности LAM 605-109114-001 соответствуют требованиям вашего источника плазмы (например, 13.56 МГц для стандартных травильных процессов).
  • Монтаж осуществляйте в помещениях с стабильным напряжением и отсутствием электромагнитных помех: искажения сигналов могут снизить точность регулировки.
  • Регулярно проверяйте состояние соединений с электродами и датчиками: оседание контактов может привести к нестабильности плазмы.
  • Обновляйте прошивку через официальный сервис Lam Research: Это добавляет новые алгоритмы адаптации и улучшает совместимость с обновленными системами ПЛК.

 

Как только вы предоставите ссылку на LAM 605-109114-001, я дополню описание актуальной информацией, включая официальные спецификации, примеры реализаций и рекомендации производителя, включив ссылку в текст упоминаний модели.

605-109114-001