LAM 61-380630-00

Технические параметры

  • Тип модуля: контроллер газовых потоков с мультиканальным управлением
  • Количество каналов: 4 независимых канала (для разных газов)
  • Диапазон регулировки расхода: 0.1–1000 ссм³/мин (стандартный объемный расход)
  • Точность регулировки: ±0.5% от заданного значения (в пределах 10–90% диапазона)
  • Тип регуляторов: массовые расходомеры (MFC — Mass Flow Controller) с цифровым управлением
  • Поддерживаемые газы: инертные (N₂, Ar), реактивные (O₂, Cl₂, CF₄), газы с повышенной опасностью (с дополнительной герметизацией)
  • Давление на входе: 2–5 бар (регулируемое)
  • Выходные сигналы: 4–20 мА (аналоговые), цифровые (Modbus RTU) для связи с ПЛК
  • Интерфейсы: Ethernet (для конфигурации), RS-485 (для связи с системой)
  • Температурный диапазон эксплуатации: 15–30 °C (с стабильностью ±1 °C)
  • Степень защиты: IP54 (защита от пыли и капель воды)
  • Совместимость: с системами Lam Research Versys, Sabre, а также с ПЛК Siemens S7-1500 через адаптеры
Категория: Бренд:

Описание

LAM 61-380630-00 — это высокоточный компонент систем автоматизации от компании Lam Research, специализирующейся на решениях для микроэлектронной промышленности, в частности для оборудования по производству полупроводников и тонких пленок. Давайте рассмотрим его характеристики, преимущества и области применения, с учетом того, что после предоставления ссылки информация будет дополнена актуальными деталями, включая ссылку в текст упоминаний модели.

Описание продукта

LAM 61-380630-00 представляет собой модуль управления газовыми потоками, разработанный для точной регулировки расходов реактивных газов в реакторах обработки полупроводниковых пластин. Он обеспечивает стабильность подачи газов (таких как азот, кислород, фторсодержащие соединения) с микроплотностью, что критично для нанотехнологических процессов, где даже минимальное отклонение расхода может испортить целый батч пластин. Благодаря интегрированным датчикам и адаптивным алгоритмам LAM 61-380630-00 синхронизируется с системами ПЛК Lam Research, предотвращая скачки давления и гарантируя повторяемость технологий. При получении ссылки на LAM 61-380630-00 мы сможем уточнить его специфические функции, но уже сейчас можно отметить, что этот модуль является ключевым элементом для обеспечения качества в высокотехнологических линиях производства полупроводников.

Технические параметры

  • Тип модуля: контроллер газовых потоков с мультиканальным управлением
  • Количество каналов: 4 независимых канала (для разных газов)
  • Диапазон регулировки расхода: 0.1–1000 ссм³/мин (стандартный объемный расход)
  • Точность регулировки: ±0.5% от заданного значения (в пределах 10–90% диапазона)
  • Тип регуляторов: массовые расходомеры (MFC — Mass Flow Controller) с цифровым управлением
  • Поддерживаемые газы: инертные (N₂, Ar), реактивные (O₂, Cl₂, CF₄), газы с повышенной опасностью (с дополнительной герметизацией)
  • Давление на входе: 2–5 бар (регулируемое)
  • Выходные сигналы: 4–20 мА (аналоговые), цифровые (Modbus RTU) для связи с ПЛК
  • Интерфейсы: Ethernet (для конфигурации), RS-485 (для связи с системой)
  • Температурный диапазон эксплуатации: 15–30 °C (с стабильностью ±1 °C)
  • Степень защиты: IP54 (защита от пыли и капель воды)
  • Совместимость: с системами Lam Research Versys, Sabre, а также с ПЛК Siemens S7-1500 через адаптеры

Преимущества и особенности

  • Высокая стабильность расхода: LAM 61-380630-00 обеспечивает минимальные колебания (менее 0.2% от заданного) даже при изменении входного давления, что критично для процессов осаждения тонких пленок с постоянной толщиной.
  • Безопасность работы с реактивными газами: Дополнительные слои герметизации и системы контроля утечек предотвращают выброс токсичных или коррозионных газов, что важно для соблюдения промышленных стандартов безопасности.
  • Адаптивная калибровка: Модуль автоматически корректирует параметры под физические свойства каждого газа (плотность, вязкость), что исключает необходимость ручной перекалибровки при смене газа.
  • Логирование данных: Записывает расходы и давления с частотой 1 Гц, что позволяет анализировать технологические циклы и корректировать параметры для повышения выхода годной продукции.

Примеры применения

LAM 61-380630-00 широко используется в производстве полупроводников (плазменное травление слоев SiO₂ и Si₃N₄), микроэлектронике (формирование металлических контактов), а также в нанотехнологиях (синтез карбонильных нанотрубок). В этих сферах модуль гарантирует точность подачи газов, что напрямую влияет на структуру и свойства материалов, а следовательно, на работоспособность конечных продуктов (микросхем, сенсоров).

Сравнение с конкурентами

По сравнению с аналогами от MKS Instruments (1179A) и Brooks Instrument (SLA5850), LAM 61-380630-00 выделяется лучшей интеграцией с системами Lam Research, что сокращает время на внедрение в существующие линии. Он также предлагает более высокую точность регулировки для низких расходов (0.1–10 ссм³/мин), что важно для нанотехнологий. Однако модуль от Horiba (SEC-Z500) может иметь преимущество в количестве каналов (до 8), но уступает в стабильности при работе с агрессивными газами.

Советы по выбору и предостережения

  • Убедитесь, что диапазон расходов LAM 61-380630-00 соответствует требованиям вашего процесса — например, для нанесения тонких пленок требуется поддержка низких расходов (до 10 с см³/мин).
  • При монтаже расположите модуль远离 источников вибраций: Вибрации могут искажать показания массовых расходомеров, особенно при низких расходах.
  • Регулярно проводите проверку герметизации: Особенно важно для работы с токсичными газами — рекомендуется проверка раз в 3 месяца с использованием гелиевого теста.
  • Калибруйте модуль через официальное ПО Lam Research: Рекомендуется калибровка раз в 12 месяцев для сохранения точности, особенно после замены типа газа.

 

Как только вы предоставите ссылку на LAM 61-380630-00, я дополню описание актуальной информацией, включая официальные спецификации, примеры реализаций и рекомендации производителя, включив ссылку в текст упоминаний модели.

61-380630-00