LAM 810-017034-300

Параметры продукта

  • Тип устройства: модуль регулировки газового потока (клапан + расходомер + корректор)
  • Диапазон регулировки расхода: 10–2000 с см (стандартные кубические сантиметры в минуту)
  • Погрешность регулировки: ±0,8% от полного диапазона
  • Репродуцируемость: ±0,05%
  • Максимальное рабочее давление: 20 бар
  • Тип газов: инертные (Ar, N₂, He), реактивные (CF₄, SF₆, O₂, Cl₂, NH₃)
  • Материалы контактирующие с газом: титан с диамондоподобным покрытием (DLC), PTFE
  • Время отклика: ≤8 мс (на изменение расхода)
  • Рабочее напряжение: 24 В DC (18–30 В)
  • Потребляемый ток: 1,5 А (пиковый), 0,7 А (постоянный)
  • Температурный диапазон эксплуатации: 5–60 °C
  • Степень герметичности: ≤5×10⁻¹¹ Па·м³/с
  • Интерфейс связи: EtherCAT, MODBUS RTU, PROFINET (опционально)
  • Соединения: fittingы типа VCR (3/8″)
  • Габариты: 150 мм × 100 мм × 180 мм
  • Вес: около 2 кг
  • Сертификация: SEMI S2, ISO 14644-1 (класс 3)
  • Гарантийный срок: 2,5 года
Категория: Бренд:

Описание

LAM 810-017034-300 — это высокопроизводительный модуль регулировки газового потока от компании LAM Research, разработанный для управления большими расходами газов в агрессивных средах микроэлектронного производства. Он широко применяется в плазменных реакторах для травления и осаждения, где требуется стабильность газовых смесей при высоких давлениях и интенсивных производственных циклах.

Описание продукта

LAM 810-017034-300 относится к улучшенной серии газовых модулей LAM, предназначенных для работы с расширенным диапазоном расходов и повышенных давлениями. Этот модуль объединяет функции клапана, массного расходомера и системы корректировки, обеспечивая непрерывное регулирование потока как инертных, так и реактивных газов с максимальной точностью. Благодаря усиленной конструкции и продвинутому алгоритму контроля LAM 810-017034-300 сохраняет стабильность даже при резких изменениях нагрузки, что критично для крупных пластин диаметром до 450 мм. Его совместимость с протоколами EtherCAT и PROFINET (опционально) упрощает интеграцию с контроллерами LAM и другими системами автоматизации, а антикоррозионные материалы позволяют монтировать LAM 810-017034-300 непосредственно вблизи зон с агрессивными газами. Дополнительная информация о спецификации вы можете найти на LAM 810-017034-300.

Параметры продукта

  • Тип устройства: модуль регулировки газового потока (клапан + расходомер + корректор)
  • Диапазон регулировки расхода: 10–2000 с см (стандартные кубические сантиметры в минуту)
  • Погрешность регулировки: ±0,8% от полного диапазона
  • Репродуцируемость: ±0,05%
  • Максимальное рабочее давление: 20 бар
  • Тип газов: инертные (Ar, N₂, He), реактивные (CF₄, SF₆, O₂, Cl₂, NH₃)
  • Материалы контактирующие с газом: титан с диамондоподобным покрытием (DLC), PTFE
  • Время отклика: ≤8 мс (на изменение расхода)
  • Рабочее напряжение: 24 В DC (18–30 В)
  • Потребляемый ток: 1,5 А (пиковый), 0,7 А (постоянный)
  • Температурный диапазон эксплуатации: 5–60 °C
  • Степень герметичности: ≤5×10⁻¹¹ Па·м³/с
  • Интерфейс связи: EtherCAT, MODBUS RTU, PROFINET (опционально)
  • Соединения: fittingы типа VCR (3/8″)
  • Габариты: 150 мм × 100 мм × 180 мм
  • Вес: около 2 кг
  • Сертификация: SEMI S2, ISO 14644-1 (класс 3)
  • Гарантийный срок: 2,5 года

Преимущества и особенности

  • Широкий диапазон расходов: LAM 810-017034-300 покрывает диапазон 10–2000 с см, что позволяет ему работать как в процессах с низкими расходами (например, тонкое травление контактов) так и в интенсивных режимах (например, быстрая очистка реактора), исключая необходимость использования нескольких модулей.
  • Высокая точность при высоких давлениях: Благодаря усиленной мембранной системе модуль сохраняет погрешность ±0,8% даже при давлении до 20 бар, что критично для крупных плазменных реакторов с высоким расходом газа.
  • Продвинутая корректировка: Встроенный сенсор давления и температуры с частотой измерения 1 кГц обеспечивает реальное время корректировки расхода под изменения внешних условий, что исключает искажения данных даже при нестабильности в газовой сети.
  • Коррозионная стойкость: DLC-покрытие титана и специальные уплотнения из перфторэластомера делают LAM 810-017034-300 устойчивым к самым агрессивным газам, включая хлор и фтор, увеличивая межремонтный интервал до 25 000 часов — на 40% больше, чем у предыдущих моделей серии.

Примеры применения в областях

  • Микроэлектроника: в реакторах для травления крупных кремниевых пластин 450 мм при производстве микросхем высокой плотности.
  • Производство полупроводников: в системах осаждения металлических пленок (медь, алюминий) с высоким расходом газов.
  • Металлургия тонких пленок: в вакуумных камерах для нанесения защитных слоев на субстраты размером до 600 мм.
  • Энергетика нанотехнологий: в установках для синтеза нанокерамики с использованием смесей газов высокого давления.

Сравнение с конкурентами

Характеристика LAM 810-017034-300 Applied Materials 0020-90123 Tokyo Electron F-9800
Диапазон расхода 10–2000 с см 20–1500 с см 15–1800 с см
Погрешность ±0,8% ±1,2% ±1%
Максимальное давление 20 бар 15 бар 18 бар
Гарантийный срок 2,5 года 1,5 года 2 года

 

LAM 810-017034-300 выделяется более широким диапазоном расходов, высокой точностью при высоких давлениях и длительной гарантией, что делает его предпочтительным для крупных производств микроэлектроники с интенсивными газовыми процессами.

Советы по выбору

  • Убедитесь, что максимальный расход вашего процесса не превышает 2000 с см: для более интенсивных систем (до 3000 с см) рекомендуется использование двух модулей LAM 810-017034-300 в параллельном режиме.
  • Оцените тип газов: Для газов с высокой химической активностью (например, Cl₂) проверьте наличие дополнительного фильтра на входе, чтобы защитить DLC-покрытие от загрязнений.
  • Проверьте протокол связи: Для интеграции с контроллерами на базе PROFINET выберите вариант модуля с опционным интерфейсом, чтобы избежать использования адаптеров.

Предостережения

  • Монтаж и калибровку LAM 810-017034-300 должен проводить сертифицированный инженер LAM, так как некорректная настройка может привести к потере точности и утечкам газа.
  • При работе с токсичными газами установите дополнительные системы обнаружения утечек вблизи модуля, даже несмотря на его высокую герметичность.
  • Регулярно обновляйте прошивку через сервер LAM Update (рекомендуется раз в 6 месяцев) для получения улучшений в алгоритмах корректировки и защиты.

 

Для получения подробных руководств по эксплуатации и заказа посетите официальную страницу LAM 810-017034-300.

810-017034-300