Описание
LAM 853-150806-001 — это высокоточный модуль регулировки газовых потоков для систем обработки полупроводниковых пластин от компании LAM Research, разработанный для точного контроля состава и интенсивности газовых смесей в реакторах травления и депозиции. Он сочетает в себе микропроцессорное управление и сверхточные дроссели, что делает его незаменимым в фабриках микроэлектроники, где стабильность газовых параметров определяет качество нанесенных слоев и структуры микросхем.
Описание продукта
LAM 853-150806-001 относится к серии специализированных модулей для газовой системы, предназначенных для регулировки потоков инертных (аргон, азот) и реактивных (трифтор화 азот, борный трихлорид) газов с микронным разрешением. Этот модуль принимает сигналы от контроллеров процессов (в формате 4–20 мА или Ethernet/IP) и преобразует их в регулирующие воздействия на электропневматические дроссели, обеспечивая поток газа с погрешностью не более ±0,1% от заданного значения. Благодаря этому LAM 853-150806-001 гарантирует стабильность химических реакций в реакторах, что критично для производства высококачественных полупроводниковых пластин.
LAM 853-150806-001 оснащен 4 независимыми каналами регулировки (для разных газов), каждый из которых поддерживает диапазон потоков от 0,1 до 1000 ссм³/мин (стандартные условия). Модуль имеет встроенные датчики давления (до 10 бар) и температуры газа, что позволяет выполнять корректировки в реальном времени при изменениях внешних условий. LAM 853-150806-001 поддерживает протоколы SECS/GEM и Modbus TCP/IP, что обеспечивает интеграцию с системами МЕС и PLC, а также возможность удаленного контроля параметров.
Кроме того, LAM 853-150806-001 оснащен функцией “автоматической калибровки”: он самопроверяет и корректирует дроссели раз в 24 часа, исключая необходимость частых ручных регулировок. Корпус модуля изготовлен из антистатического материала с защитой от коррозии (важно для работы с агрессивными газами) и соответствует стандартам чистых зон ISO Class 5. Дополнительная информация о спецификации вы можете найти на LAM 853-150806-001.
Параметры продукта
- Тип устройства: модуль регулировки газовых потоков для полупроводниковой промышленности
- Количество каналов: 4 независимых
- Диапазон потоков газа: 0,1–1000 ссм³/мин (std)
- Погрешность регулировки: ±0,1% от заданного значения
- Тип газов: инертные, реактивные (включая коррозионные)
- Входы управления: 4 аналоговых (4–20 мА) или 1 Ethernet/IP порт
- Датчики: встроенные датчики давления (0–10 бар) и температуры (-10–50 °C)
- Протоколы связи: SECS/GEM, Modbus TCP/IP
- Рабочее напряжение: 24 В DC (20–28 В)
- Потребляемый ток: ≤250 мА
- Температурный диапазон эксплуатации: 18–25 °C (чистая зона)
- Степень защиты: IP54 (защита от пыли и капель)
- Материал корпуса: антистатический нитрид алюминия с коррозионной защитой
- Габариты: 140 мм × 110 мм × 60 мм
- Вес: около 600 г
- Сертификация: SEMI S2 (безопасность при работе с токсичными газами), ISO 14644-1 (Class 5)
- Гарантийный срок: 3 года
Преимущества и особенности
- Высокая точность: LAM 853-150806-001 обеспечивает регулировку потоков с погрешностью ±0,1%, что критично для нанесения тонких слоев (до 1 нм) на полупроводниковые пластинки.
- Автоматическая калибровка: Самостоятельная проверка и корректировка дросселей сокращают время простоев на обслуживание.
- Коррозионная устойчивость: Материал корпуса защищает модуль от воздействия агрессивных газов (например, хлоридов), увеличивая срок службы.
- Интеграция с системами МЕС: Поддержка SECS/GEM позволяет отслеживать историю потоков и анализировать влияние газовых параметров на качество продукции.
Примеры применения в областях
- Производство микросхем: для регулировки потоков реактивных газов в реакторах травления LAM, обеспечивая стабильность процессов через LAM 853-150806-001.
- Депозиционные линии: в установках для нанесения диэлектрических слоев (например, SiO₂) для контроля состава газовой смеси.
- Фабрики светодиодов: для регулировки потоков галлиевых соединений в эпитаксиальных реакторах.
- Исследовательские лаборатории: в экспериментальных установках по синтезу наноматериалов с контролируемым составом.
Сравнение с конкурентами
| Характеристика | LAM 853-150806-001 | Applied Materials 0100-56789 | Tokyo Electron TEL-9012 |
|---|---|---|---|
| Погрешность регулировки | ±0,1% | ±0,2% | ±0,15% |
| Автоматическая калибровка | Да (ежедневная) | Нет (ручная) | Да (еженедельная) |
| Количество каналов | 4 | 2 | 3 |
| Гарантийный срок | 3 года | 2 года | 3 года |
LAM 853-150806-001 выделяется более высокой точностью, ежедневной автоматической калибровкой и большим количеством каналов, что делает его предпочтительным для сложных газовых систем полупроводниковых производств.
Советы по выбору
- Определите количество газов: Если требуется регулировка 4 разных газовых смесей (типично в травлении), LAM 853-150806-001 предоставляет необходимую емкость.
- Оцените тип газов: Для агрессивных коррозионных газов коррозионная защита корпуса модуля является критическим фактором.
- Проверьте требования к калибровке: В условиях круглосуточного производства ежедневная автоматическая калибровка снижает нагрузку на обслуживание.
Предостережения
- Монтаж и обслуживание LAM 853-150806-001 должен проводиться только обученными специалистами с сертификатом на работу с токсичными газами — неисправности в герметизации могут привести к утечкам.
- Регулярно проверяйте герметичность соединений газовых линий (раз в неделю) — утечки могут испортить процесс и представить опасность для операторов.
- Не эксплуатируйте модуль за пределами температурного диапазона 18–25 °C — это вызовет дрейф параметров и снижение точности.
Для получения подробных руководств по эксплуатации и заказа посетите официальную страницу LAM 853-150806-001.
853-150806-001
