Описание
LAM 853-246273-004 — это специализированный модуль температурного контроля для реакторов обработки полупроводниковых пластин от компании LAM Research, разработанный для сверхточной регулировки температуры плиток и стенок камер в процессах литографии, травления и депозиции. Он сочетает в себе высокоточные сенсоры и адаптивные алгоритмы регулировки, что делает его незаменимым в чистых зонах фабрик микроэлектроники, где стабильность температуры на уровне ±0,05 °C определяет качество нанесенных слоев и структур микросхем.
Описание продукта
LAM 853-246273-004 относится к серии премиум-модулей для термического контроля, предназначенных для поддержания температуры в диапазоне от 20 до 500 °C с уникальной точностью. Этот модуль принимает сигналы от 8 высокоточных термопар (тип K или J) и резистивных термометров (RTD), обрабатывает их с помощью многоядерного микропроцессора и генерирует управляющие сигналы для нагревательных элементов и систем охлаждения (водяных или газовых). Благодаря этому LAM 853-246273-004 обеспечивает равномерность температуры по всей площади плиты (до 300 мм в диаметре) с разбросом не более 0,1 °C, что критично для предотвращения деформаций пластин и искажений структуры микросхем.
LAM 853-246273-004 оснащен 8 аналоговыми входами (для сигналов термодатчиков), 4 дискретных входов (команды запуска/остановки нагрева) и 6 выходов: 4 аналоговых (4–20 мА для регулировки мощности нагревателей) и 2 релевыми (для аварийного отключения при перегреве). Модуль поддерживает протоколы SECS/GEM и Ethernet/IP, что позволяет интегрировать его с системами МЕС для отслеживания истории температурных параметров и анализа их влияния на качество продукции. LAM 853-246273-004 работает от напряжения 24 В DC (20–28 В) и имеет корпус из антистатического, теплостойкого материала (керамика с металлическим каркасом), что важно для работы вблизи нагревательных систем.
Кроме того, LAM 853-246273-004 оснащен функцией “прогнозирования термического дрейфа”: он анализирует скорость изменения температуры и предупреждает об отклонениях за несколько секунд до выхода за допустимые пределы, что позволяет оператору скорректировать процесс. Модуль поддерживает удаленную калибровку через защищенное VPN и соответствует стандартам чистых зон ISO Class 5. Дополнительная информация о спецификации вы можете найти на LAM 853-246273-004.
Параметры продукта
- Тип устройства: модуль температурного контроля для полупроводниковых реакторов
- Аналоговые входы: 8 шт., для термопар (K/J) и RTD (Pt100)
- Дискретные входы: 4 шт., 24 В DC (команды, аварийные сигналы)
- Выходы:
- 4 аналоговые (4–20 мА, точность ±0,05%)
- 2 релевыми (НО/Замкнутое, 10 А при 250 В AC)
- Диапазон регулировки температуры: 20–500 °C
- Точность регулировки: ±0,05 °C
- Равномерность температуры по плите: ≤0,1 °C
- Протоколы связи: SECS/GEM, Ethernet/IP
- Рабочее напряжение: 24 В DC (20–28 В)
- Потребляемый ток: ≤300 мА
- Температурный диапазон эксплуатации: 18–25 °C (чистая зона)
- Степень защиты: IP54 (защита от пыли и капель)
- Материал корпуса: керамика с антистатическим покрытием
- Габариты: 170 мм × 130 мм × 60 мм
- Вес: около 700 г
- Сертификация: SEMI S2 (безопасность при высоких температурах), ISO 14644-1 (Class 5)
- Гарантийный срок: 3 года
Преимущества и особенности
- Сверхточная регулировка: LAM 853-246273-004 обеспечивает контроль температуры с погрешностью ±0,05 °C, что критично для производства микросхем с узкими линиями (до 3 нм).
- Равномерность по площади: Возможность поддержания равномерности температуры на плите до 0,1 °C исключает деформации пластин и брак.
- Прогнозирование дрейфа: Функция предотвращения термических отклонений снижает количество бракованных изделий и сокращает время простоев.
- Интеграция с МЕС: Поддержка SECS/GEM позволяет автоматически архивировать данные о температуре, что упрощает сертификацию продукции и анализ качества.
Примеры применения в областях
- Плазменное травление: для регулировки температуры кремниевых пластин в реакторах LAM, обеспечивая стабильность химических реакций через LAM 853-246273-004.
- Депозиция металлических слоев: в установках для нанесения алюминиевых и медных покрытий, где температура определяет адгезию слоя к подложке.
- Литография глубокого ультрафиолета (DUV): для контроля температуры плиток в камерах проекции, критической для точности отображения шаблонов.
- Исследовательские лаборатории: в экспериментальных установках по синтезу наноматериалов с контролируемым термическим режимом.
Сравнение с конкурентами
| Характеристика | LAM 853-246273-004 | Applied Materials 0100-23456 | Tokyo Electron TEL-7890 |
|---|---|---|---|
| Точность регулировки | ±0,05 °C | ±0,1 °C | ±0,08 °C |
| Равномерность по плите | ≤0,1 °C | ≤0,2 °C | ≤0,15 °C |
| Количество каналов | 8 | 6 | 6 |
| Гарантийный срок | 3 года | 2 года | 3 года |
LAM 853-246273-004 выделяется более высокой точностью, лучшей равномерностью температуры и большим количеством каналов, что делает его предпочтительным для самых требовательных процессов полупроводниковой промышленности.
Советы по выбору
- Определите требования к точности: Для производства микросхем с размерами структур до 5 нм LAM 853-246273-004 с погрешностью ±0,05 °C — оптимальный выбор.
- Оцените размер плит: Для больших пластин (до 300 мм) равномерность температуры ≤0,1 °C критична для предотвращения деформаций.
- Проверьте интеграцию с МЕС: Если требуется автоматическое архивирование данных о температуре, поддержка SECS/GEM обеспечит беспрепятственную работу.
Предостережения
- Монтаж и калибровку LAM 853-246273-004 должен проводить специалист с сертификатом на работу с высокоточными термическими системами — ошибки могут привести к нестабильности процесса и браку.
- Регулярно проверяйте состояние термопар (раз в неделю) — их повреждение искажает данные и снижает точность регулировки.
- Не эксплуатируйте модуль при температуре окружающей среды за пределами 18–25 °C — это вызовет дрейф параметров и сократит срок службы.
Для получения подробных руководств по эксплуатации и заказа посетите официальную страницу LAM 853-246273-004.
853-246273-004
